• NB/T47013.8-2012
  • 1 范围
  • 2 规范性引用文件
  • 3 术语和定义
  • 4 一般要求
  • 5 检测
  • 6 结果评价
  • 7 记录和报告
  • 附录A（规范性附录） 气泡泄漏检测——直接加压技术
  • 附录B（规范性附录） 气泡泄漏检测——真空罩技术
  • 附录C（规范性附录） 卤素二极管泄漏检测技术
  • 附录D（规范性附录） 氦质谱仪泄漏检测——吸枪技术
  • 附录E（规范性附录） 氦质谱仪泄漏检测——示踪探头技术
  • 附录F（规范性附录） 氦质谱仪泄漏检测——护罩技术
  • 附录G（规范性附录） 氨泄漏检测技术
  • 附录H（规范性附录） 管道声波泄漏检测技术
  • 附录I（规范性附录） 压力变化泄漏检测技术
  • 附录J（规范性附录） 热导泄漏检测技术
  • 附录K（规范性附录） 超声泄漏检测技术