• YS 5032-2000
  • 1 总则
  • 2 基本规定
  • 3 原料、辅助材料与燃料
  • 3.1 菱镜矿氯化电解炼镜
  • 3.2 光卤石炼镶
  • 3.3 皮江法炼楼
  • 4 原料堆场
  • 4.1 菱镜矿氯化电解炼镜
  • 4.2 光卤石炼镜
  • 4.3 皮江法炼镜
  • 5 菱镜矿氯化与氯化镜库
  • 5.1 菱镇矿氯化
  • 5.2 氯化镇库
  • 6 光卤石一次脱水与尾气净化
  • 6.1 光卤石一次脱水
  • 6.2 沸腾炉尾气净化
  • 7 光卤石二次脱水与尾气净化
  • 7.1 光卤石二次脱水
  • 7.2 氯化器尾气净化
  • 8 电解、氯气输送与阳极制备
  • 8.1 电 解
  • 8.2 氯气输送
  • 8.3 阳极制备
  • 8.4 废电解质处理
  • 9 氯气液化与贮存
  • 9.1 一般规定
  • 9.2 氯气液化
  • 9.3 液氯贮存
  • 10 精炼与铸造
  • 10.1 一般规定
  • 10.2 精炼
  • 10.3 铸造
  • 11 镜键表面处理、包装与贮存
  • 11.1 楼键表面处理与包装
  • 11.2 模链贮存
  • 12 废气净化
  • 13 白云石锻烧
  • 14 压 团
  • 15 还原与脱筒
  • 15.1 还原
  • 15.2 脱筒
  • 本规范用词说明
  • 附:镇冶炼厂工艺设计规范条文说明