• DL/T1801-2018
  • 1 范围
  • 2 规范性引用文件
  • 3 术语和定义
  • 4 人员
  • 5 监测系统
  • 5.1 检测仪器
  • 5.2 相控阵探头
  • 5.3 扫查装置
  • 5.4 试块
  • 5.5 仪器、探头、系统校准
  • 6 检测技术等级
  • 6.1 检测技术等级分类
  • 6.2 检测技术等级要求
  • 7 检测准备
  • 7.1 检测区域
  • 7.2 扫查区
  • 7.3 扫查与扫描方式
  • 7.4 检测区域覆盖
  • 7.5 不同接头型式的扫查要求
  • 7.6 探头及楔块选择
  • 7.7 耦合
  • 7.8 耦合监控
  • 7.9 检测温度
  • 7.10 母材检测
  • 7.11 识别
  • 8 检测温度
  • 8.1 扇形扫描设置
  • 8.2 线性扫描设置
  • 8.3 扫查分区
  • 8.4 S值的计算
  • 8.5 扫查步进
  • 8.6 聚焦
  • 8.7 基准灵敏度
  • 8.8 扫查灵敏度
  • 8.9 位置传感器校准
  • 8.10 检测系统复核
  • 9 检测
  • 10 检测数据分析和缺欠测量
  • 10.1 检测数据有效性评价
  • 10.2 缺欠识别与测量
  • 11 缺欠评定
  • 11.1 不记录缺欠
  • 11.2 不允许存在的缺欠
  • 11.3 允许存在缺欠评定
  • 12 检测记录和报告
  • 12.1 检测记录
  • 12.2 检测报告
  • 附录A(资料性附录) 常用金属材料
  • 附录B(规范性附录) 相控阵探头晶片灵敏度差异与有效性测试
  • 附录C(规范性附录) 对比试块形状和尺寸
  • 附录D(规范性附录) 横向缺欠检测
  • 附录E(资料性附录) 相控阵超声检测报告格式
  • 参考文献