• GB-T32495-2016
  • 1 范围
  • 2 规范性引用文件
  • 3 术语和定义
  • 4 符号和缩略语
  • 5 原理
  • 6 参考物质
  • 6.1 用于校准相对灵敏度因子的参考物质
  • 6.2 用于校准深度的参考物质
  • 7 仪器
  • 7.1 二次离子质谱仪
  • 7.2 触针式轮廓仪
  • 7.3 光学干涉仪
  • 8 样品
  • 9 步骤
  • 9.1 二次离子质谱仪的调整
  • 9.2 优化二次离子质谱仪的设定
  • 9.3 进样
  • 9.4 被测离子
  • 9.5 样品检测
  • 9.6 校准
  • 10 结果表述
  • 11 测试报告
  • 附录A (资料性附录)硅中砷深度剖析巡回测试报告
  • 附录B (资料性附录)NIST SRM 2134深度剖析步骤
  • 参考文献